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광경화성 재료 -제조 기술과 응용 전개- [일본어판]
◇발행처: TOR    ◇발행일: 2007년 09월   ◇가격: ¥68,000[Print]    ◇페이지수: 411 쪽
의약품의 글로벌화와 GMP

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목차
요약
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제1장광경화성 재료의 개요 1
 1.1 광경화 시스템의 개요 1
  1.1.1 광가교, 광경화, 광중합과 화학 구조 1
  1.1.2 열경화 방법이라는 비교 22
  1.1.3 빛(활성 에너지선)의 종류 24
 1.2 광경화성 재료의 종류와 구조 33
  1.2.1 광경화 재료의 구성 33
  1.2.2 수지 조성물 34
  1.2.3 광중합 개시제 44
  1.2.4 그 외 경화 반응으로 이용되는 재료 59
 1.3 에너지원 발생 장치 64
  1.3.1 UV경화 장치 64
  1.3.2 EB경화 장치 65
  1.3.3 관련 장치 68
 1.4 광경화성 재료의 물성과 평가 70
  1.4.1 경화 과정의 유동학 70
  1.4.2 경화물의 해석 81
  1.4.3 경화 거동의 해석 89
 인용 문헌 115
 
제2장광경화성 수지의 과제와 대책 117
 2.1 광경화성 수지에 요구되는 개질 기술 117
  2.1.1 경화 피막이 딱딱함 118
  2.1.2 기재와의 밀착성 119
   (1) 경화 수축율 119
   (2) 표면장력 121
   (3) 다종기재에의 밀착성(동아합성) 122
   (4) 모노머의 내광성(대일본 잉크 화학공업, 스미토모 전기공업, 일본 페인트) 124
  2.1.3 환경 조화성 125
   (1) 저독성 125
   (2) 휘발성 127
   (3) 희석성 128
   (4) 에코 효율 분석(BASF사:독일) 128
  2.1.4 고감도화에 관한 각사의 대처 129
   (1) 오지제지 130
   (2) 후지 필림 130
   (3) 쇼와전공 130
   (4) 듀폰엠아르시드라이피룸 130
   (5) 토요 잉크 제조 130
   (6) 후지 후이룸에레크트로니크스마테리아르즈 131
   (7) 미츠비시 화학 131
   (8) 히타치 화성 131
   (9) 고오화학공업 131
   (10) 코니카 미놀타 홀딩스 132
   (11) 일본조들 132
  2.1.5 내오염성의 개량(대일본 잉크 화학공업) 132
  2.1.6 도막의 상분리나 성분편석을 이용한 응용예(대일본 잉크 화학공업) 133
 2.2 광경화 수지의 재료 설계 133
  2.2.1 광경화 수지 재료의 구조 133
   (1) 감광성 고분자 133
   (2) 광중합성 모노머 138
   (3) 광가용화형수지 142
  2.2.2 신규 재료의 설계 144
   (1) 무기 재료(미립자)의 브랜드(오사카시립 공업 연구소) 144
   (2) 디이소시아네이트를 사용하지 않는 우레탄 아크릴레이트 147
   (3) 경화 일래스터머 변성 에폭시 수지(NTT 포트니크스 연구소) 148
   (4) 광경화형 실리콘 레진 코팅제 「AY42-150」 「개발품 B」(토오레) 151
   (5) 시르세스키오키산 유도체(동아합성) 152
   (6) 풀러 렌, 카본 나노 튜브의 이용 154
   (7) 광산발생제(칸사이 페인트) 156
   (8) 덴드리마, 하이퍼 브랜치 폴리머, 스타 폴리머(카나가와 대학) 157
   (9) 환상 올리고머를 기반으로 하는 광기능재료(카나가와 대학) 160
 2.3 광(활성 에너지선) 조사 조건의 최적화 161
  2.3.1 광경화 프로세스 161
   (1) 광경화전착프로세스 161
   (2) 광경화 분체 프로세스 161
  2.3.2 심부 방향에의 경화 기술 162
   (1) 연쇄 경화 시스템(미츠비시중공업) 162
   (2) 듀얼 경화 재료 164
  2.3.3 빛을 조사할 수 없는 부분의 경화 반응 166
   (1) 열경화형 166
   (2) 지연 경화형 166
   (3) 싫증 경화형 167
   (4) 습기 경화형 168
   (5) 모노머 휘발형 170
  2.3.4 열데미지의 저감 170
 2.4 경화 저해의 개선 170
  2.4.1 저해 요인 170
   (1) 산소 쿠엔팅과 산소 스카벤징의 메카니즘 170
   (2) 피막중의 래디칼 중합 반응과 산소의 영향 172
   (3) 경화 장치(마츠시타 전공 머신 앤드 비전, 파이오니아) 173
   (4) 거품의 물어 포함 174
  2.4.2 저해 대책 174
   (1) 조성물의 선택 174
   (2) 첨가제에 의한 개선 176
   (3) 경화 장치의 램프의 종류와 압력 178
   (4) 반사경, 열선 컷토프 필터의 영향 178
   (5) 불활성 가스의 주입 179
   (6) 소포제 179
   (7) 피막 형성 장치의 개선 180
   (8) 엔·thiol 경화 180
   (9) 래디칼 농도의 증대 181
   (10) 개시제의 선택 181
 2.5 밀착성의 향상 182
  2.5.1 경화 수축율의 저감 182
   (1) 반응성기농도의 저감 183
   (2) 비반응성 재료의 이용 186
   (3) 반응성 재료의 이용:첨가제 「커런츠 MT」(쇼와전공) 187
   (4) 개환 중합성 화합물의 이용(오키세탄) 187
  2.5.2 내부 응력의 저감(동아합성) 188
   (1) 경화 속도의 조정 189
   (2) 재료의 선택 190
 2.6 착색 재료의 첨가에 따르는 광경화성 저하의 개선 192
 2.7 아웃 가스 발생의 저감 193
  2.7.1 UV경화성과 아웃 가스 발생과의 관계 194
  2.7.2 아웃 가스의 측정 방법과 실례(동아합성) 194
  2.7.3 광래디칼 중합 개시제의 종류에 의한 가열 중량 감소율(나가세켐텍스) 195
  2.7.4 UV광조사시의 엘렉트로닉스 재료로부터의 발생 가스 분석
      (토오레 리서치 센터) 197
 2.8 환경 배려에의 개선 197
  2.8.1 피부 자극 197
   (1) 저점도 아크릴 모노머 198
   (2) 수계 아크릴 모노머 198
   (3) 비아크릴계 올리고머 199
  2.8.2 가열 분해 200
   (1) 레지스터 현상액의 폐수를 무공해화하는 시스템(트크야마, 샤프) 200
   (2) 엑시머 램프와 고농도 오존수를 이용한 레지스터 박리 기술(오므론) 200
   (3) 광학 소자용가지제(덴키화학공업) 202
  2.8.3 용해 제거 202
  2.8.4 탄산 에틸렌을 사용한 레지스터 박리(노무라 마이크로·사이엔스, 남텍크) 203
  2.8.5 수성화 204
   (1) 수성 포트소르다레지스트인키(일본 페인트) 204
   (2) 수성 UV도료(무사시 도료, 카가와 케미컬) 206
 2.9 그 외 206
   (1) 광중합 개시제불요 시스템(신규 화합물 MlA200)(대일본 잉크 화학공업) 206
   (2) VOC 대책과 UV경화 파우더 코팅 시스템(하리마 흥산) 207
 인용 문헌 208
 
제3장광경화 수지를 둘러싸는 시장 상황 212
 3.1 광경화형 수지 응용 제품의 시장 상황 212
  3.1.1 국내의 시장 상황 212
  3.1.2 전세계 및 지역별의 시장 213
  3.1.3 주요국에서의 소비 경향 215
  3.1.4 지역별(세계) 시장동향 216
  3.1.5 광경화형 수지 응용 제품 분야별 시장 217
   (1) 엘렉트로닉스 분야 217
   (2) 도료·코팅 분야 217
   (3) 그 외 분야(UV경화형 접착제, 가시광선 경화형 접착제, 미츠조형용 수지,
      감광성 인쇄판, 광중합형 치과 재료) 218
  3.1.6 주목 시장의 상황 218
   (1) DeepUV 레지스터 218
   (2) 칼라 레지스터 218
   (3) 수지 블랙 매트릭스 219
   (4) 백 그라인드 테이프 219
   (5) UV경화형 잉크 219
   (6) 가시광선 경화형 접착제 219
   (7) 광디스크 코팅 220
   (8) UV경화형 FPD용 메인 씰제 220
   (9) 프리즘 시트 220
 3.2 용도별의 시장동향 220
  3.2.1 코팅 221
  3.2.2 포토레지스트(photoresist) 223
   (1) 반도체 레지스터 223
   (2) 칼라 필터 223
   (3) 스페이서 224
   (4) 감광성 페이스트 224
  3.2.3 잉크 224
  3.2.4 그 외 225
   (1) 양이온 UV경화 재료 225
   (2) 3 차원 미츠조형 기술 226
   (3) 경화·건조/접착용 광원 226
 인용 문헌 227
 
제4장 각 분야에서의 응용 기술 228
 4.1 접착·점착재에 있어서의 응용 기술 228
  4.1.1 광경화성 접착·점착제로 요구되는 요소 기술 228
   (1) 점착과 접착의 차이 228
   (2) 접착제에의 요구 특성 229
   (3) UV점착제에의 요구 특성 230
  4.1.2 각종 용도에 있어서의 접착제의 요구 특성 232
   (1) 디스플레이 용도 232
   (2) 광학 디바이스 부품 용도 234
  4.1.3 광경화형 접착·점착제의 종류 235
   (1) 래디칼 중합성 아크릴 수지계 접착제 236
   (2) 광경화형 순간 접착제(스리본드) 237
   (3) UV경화형 점착제(동아합성) 240
  4.1.4 광경화형 접착, 점착제의 응용 전개 242
   (1) 엘렉트로닉스 분야에서 이용되는 광점접착제 242
    A LCD 및 유기 EL용 접착제(나가세켐텍스, 스리본드) 242
    B UV경화성 수지에 의한 광디스크의 디스크판과 허브의 접착(스리본드) 245
    C 광실장용광경화형 접착 재료(NTT 어드밴스 테크놀러지) 247
    D UV경화형 광로용 광학 접착제(NTT 포트니크스 연구소) 250
    E 자연 박리 점착제(닛토 전공) 252
    F 고밀도 차원 실장 패키지 제조로의 광경화성점접착 테이프(후루카와전공) 253
   (2) 의료용 분야에서 이용되는 광점접착제 255
    A 광경화 수지에 의한 치과용 시멘트(지시) 256
   (3) 자동차, 철도, 항공기로 이용되는 광점접착제 256
    A EB경화 프로세스에 의한 항공기용 구조 부재의 개발 257
    B UV경화 프로세스에 의한 항공기용 구조 부재의 개발 257
    C 광(가시광선) 경화 프로세스에 의한 항공기용 구조 부재의 개발 257
    D 자동 테이프 플레이스먼트 적층 장치(ATP)의 연구 258
    E 가시광선으로 경화하는 항공기의 2차 구조재(토오레) 258
   (4) 건축, 토목으로 이용되는 광점접착제 259
    A 가시광선으로 굳어지는 막으로 내면 보호(시미즈 건설, 쇼와 고분자와 쿠라보우,
      스리본드 유니콤) 드유니콤) 259
    B 광시트에 의하고는 구락대책(스리본드, 시미즈 건설, 쇼와 고분자,
      쿠라보우) 259
   (5) 인쇄 업계에서 사용되는 UV경화형 점착제 261
    A 아크리탁크시리즈(노테이브 공업) 261
    B 옥소를 포함한 UV경화 접착제(마츠시타 전기산업) 263
  4.1.5 광경화성점, 접착제의 장래 전망 264
 인용 문헌 265
 4.2 광경화성 잉크에 있어서의 응용 기술 266
  4.2.1 광경화성 잉크의 특징 266
  4.2.2 광경화성 잉크로 요구되는 요소 기술 267
   (1) 프린트 프로세스와 소재의 기술 과제 267
  4.2.3 광경화성 잉크의 분류와 종류 269
   (1) UV/EB경화형 잉크 269
   (2) 스크린 인쇄용 잉크 271
   (3) 후레키소 인쇄용 잉크 273
   (4) 잉크젯 인쇄용 잉크 276
    A UV경화형 잉크젯 잉크의 특징 277
    B UV경화형 IJ잉크의 점도 278
    C 아크릴계의 UV경화형 IJ잉크 재료 278
    D 수계 UV경화형 IJ잉크 279
    E 양이온계 UV경화형 IJ잉크 281
    F 심도 방향에의 경화 285
    G UV램프에 의한 잉크젯용 UV잉크의 개선 287
   (5) 유성·UV하이브리드 잉크 287
  4.2.3 광경화성 잉크의 응용 전개 288
   (1) EB경화형 후레키소 인쇄 시스템(Sun Chemical사) 288
   (2) 인 라인용초광택 자외선(UV) 경화형 오버코트 니스(사카타잉스) 289
   (3) 내수성·내용제성 UV스크린 인쇄용 감광성 수지 조성물(무라타 제작소) 289
   (4) 활성 에너지선경화형 IJ잉크(캐논) 290
   (5) 동식물유계의 활성 에너지선경화성 인쇄 잉크(토요 잉크 제조) 291
   (6) 비수계의 자외선 경화형 IJ잉크 조성물(다이닉) 292
   (7) 고습 환경 대응의 IJ용 활성 에너지선경화 조성물(동아합성) 292
   (8) 고습 환경 대응의 IJ용 활성 에너지선경화 조성물
      (코니카 미놀타 엠지) 292
   (9) 활성 에너지선경화형 도전성 잉크 조성물(대일본 잉크 화학공업) 293
   (10) 안전 소재성이 높은 양이온 중합식 잉크 「Ex-UV」(코니카 미놀타) 293
   (11) 프린트 배선 기판을 위한  UV경화 장치 일체형 심볼 인쇄 장치(무토 공업) 296
  4.2.4 광경화성 잉크의 장래 전망 297
   (1) 새로운 응용예 297
   (2) VOC 대책에 관계한 잉크 동향 298
   (3) UV잉크의 기술 동향 298
 인용 문헌 298
 4.3 광경화성 도료(코팅제)에 있어서의 응용 기술 299
  4.3.1 광경화 도료로 요구되는 요소 기술 301
  4.3.2 광경화 도료의 분류와 종류 302
   (1) 대표적 재료의 종류와 구조 302
   (2) 공업제품으로 이용되는 광경화 도료 304
    A 플라스틱 도료용 하드 코트 재료 304
    B 프린트 배선 기판 관련의 레지스터 재료 305
    C 광섬유에 있어서의 피복재 305
    D UV스크린 잉크의 니스코-팅 307
    E 금속용광경화 도장 309
   (3) 건재 분야에서 이용되는 광경화성 도료 309
    A 목공용 도료 310
    B 목공 용수성 UV도료의 설계 311
    C 주택용 수성도료 311
    D 가시광선에 의한 수성도료의 경화(대일본 잉크 화학공업) 314
  4.3.3 광경화성 도료의 응용 전개 315
   (1) 활성 에너지선경화형 분체 도료(칸사이 페인트) 315
   (2) 자동차 용수성 크리야 도료(일본 페인트) 316
   (3) 자외선 중합 개시제를 함유 하는 세라믹 도료(TDK) 316
   (4) 광디스크의 코팅(마츠시타 전기산업) 317
   (5) 특수 기능성의 압착 UV코트 「FD하 구리 바니스」(토요 잉크 제조) 318
   (6) 아데카나노하이브릿드시리콘(아사히 전화공업) 319
   (7) 밀러 코팅 시스템(이시맛트·재팬) 321
   (8) 자동차 보수 도료 「nax 가시광선 접착제 240」(일본 페인트) 326
   (9) UV경화형 도료를 사용한 왁스 시트 「후로아디아」(니치반) 328
  4.3.4 광경화성 도료의 장래 전망 328
 인용 문헌 328
 4.4 반도체용 포토레지스트(photoresist) 둘 수 있는 응용 기술 329
  4.4.1 반도체용 포토레지스트(photoresist)로 요구되는 요소 기술 330
   (1) 액침ArF 리소그래피 기술 331
   (2) EUV 리소그래피 기술 331
  4.4.2 반도체용 포토레지스트(photoresist)의 분류와 종류 331
   (1) 광원의 종류에 의한 레지스터의 분류 331
    A KrF 리소그래피용 레지스터 332
    B ArF 리소그래피용 레지스터 333
    C F2리소그래피용 레지스터 335
    D EB/EUV 리소그래피용 레지스터 336
   (2) 공정의 종류에 의한 레지스터의 분류 337
    A 광나노 흔적 337
    B 금속 에칭용 레지스터 340
    C 드라이 필름 레지스터(히타치 화성공업) 341
   (3) 감광성 폴리이미드 342
    A 네가티브형 감광성 폴리이미드 344
    B 포지티브형 감광성 폴리이미드 346
  4.4.3 반도체용 포토레지스트(photoresist)의 응용 전개 347
   (1) SFIL 프로세스(Molecular Imprints사) 347
   (2) 화학 증폭계 고감도 레지스터(효고현립 대학 고도 산업 과학기술 연구소) 347
   (3) 유리 에칭용의 감광성 필름(히타치 화성공업) 348
   (4) 경화 온도 200℃이하로 알칼리 현상 할 수 있는 감광성 폴리이미드(토오레) 348
   (5) 감광성과 저유전율을 양립한 감광성 나노 포라스 폴리이미드(닛토 전공) 349
   (6) 극단 자외선(EUV) 리소그래피용저분자 포토레지스트(photoresist)
      (토쿄 오카 공업, 히타치 제작소) 곳) 350
   (7) 툽코트레스·레지스터 「FAiRS-9000 시리즈」(후지 필림) 351
   (8) 레지스터 박리 장치(토시바, 시바우라 메카트로닉스, 크로린에지니아즈) 352
   (9) BD-ROM의 스탠 파의 제조용 무기 레지스터(소니) 352
   (10) 레지스터 성능에 악영향을 미치지 않는 고분자 화합물(다이셀 화학공업) 353
  4.4.4 반도체용 포토레지스트(photoresist)의 장래 전망 354
    A 신 에너지 산업기술 종합 개발 기구(NEDO), 캐논 355
    B JSR 356
    C 후지 필름 357
    D 토쿄 오카 공업 357
    E 다이니혼 인쇄 357
 인용 문헌 357
 4.5 플랫 패널 디스플레이용 포토레지스트(photoresist)에 있어서의 응용 기술 358
  4.5.1 플랫 패널 디스플레이로 요구되는 요소 기술 358
   (1) 액정용 포토레지스트(photoresist) 358
   (2) PDP(Plasma Panel Display) 용 포토레지스트(photoresist) 360
   (3) 유기 EL디스플레이용 포토레지스트(photoresist) 362
  4.5.2 플랫 패널 디스플레이용 포토레지스트(photoresist)의 분류와 종류 362
   (1) TFT 액정 디스플레이용 포토레지스트(photoresist) 362
   (2) 칼라 필터용 칼라 레지스터 363
   (3) 칼라 필터 블랙 matrices 형성용 포토레지스트(photoresist) 364
   (4) PDP 바리어 리브 형성용 드라이 필름 레지스터 365
   (5) FPC(플렉서블 프린트 배선판) 용 소르다레지스트 366
   (6) 씰제 367
   (7) 스페이서 373
  4.5.4 플랫 패널 디스플레이용 포토레지스트(photoresist)의 응용 전개 375
   (1) 고감도, 고해상도를 향상하기 위한 포토레지스트(photoresist) 375
    A 스미토모 베이크라이트 376
    B 일본 합성화학공업 376
    C 일본 제온 377
   (2) 막표면의 백탁의 억제(쿠마모토 대학, AZ에레크트로닉크마테리아르즈) 377
   (3) 내투습성, 내부식성이 높은 양이온 경화성 조성물(아사히화성) 378
   (4) 고주파 무선용 세라믹 다층 기판용 감광성 조성물(토오레) 379
   (5) 광경화성 수지를 사용해 카1 본 섬유를 수직에 정렬(수도 대학 도쿄) 379
  4.5.4 플랫 패널 디스플레이용 포토레지스트(photoresist)의 장래 전망 380
 인용 문헌 381
 4.6 미츠조형용 감광성 수지 둘 수 있는 응용 기술 382
  4.6.1 미츠조형용광경화 수지로 요구되는 요소 기술 382
   (1) 미츠조형용 수지에의 요구 특성 383
  4.6.2 미츠조형용 수지의 분류와 종류 383
   (1) 미츠조형용 수지의 조성의 종류 383
   (2) 미츠조형법의 종류와 분류 386
   (3) 분야별로 이용되는 미츠조형법 389
    A 의료로 이용되는 미츠조형법 389
    B 자동차로 이용되는 미츠조형법 390
   (4) 그 외 공업제품으로 이용되는 미츠조형법 392
    A 광섬유 392
    B 하수나 가스관보전으로 이용되는 미츠조형법 392
  4.6.3 마이크로 미츠조형법 394
   (1) IH프로세스 395
   (2) 내부 경화형 마이크로 미츠조형법(Super-IH프로세스) 396
  4.6.4 미츠조형용 수지의 응용 전개 399
   (1) 광도하지의 자기 형성법(토요타 중앙연구소) 399
   (2) 감광성 폴리이미드(PSPI)를 이용한 자기 형성광도하지(쿄토 공예 섬유 대학) 401
   (3) 가시광선~근적외광의 파장 영역의 빛을 사용하는 라이닝 공법
      (쇼와 고분자) 404
   (4) 고무 물성이 있는 미츠조형용광경화 수지(시멧트, 신에츠 화학공업) 404
   (5) 투명 미츠조형 제품용광경화 수지(일본 특수 코팅) 405
   (6) 카본 나노 튜브 배합 미츠조형 수지 전극(산업기술 종합 연구소) 405
   (7) 세라믹스 조형용 UV경화성 수지조(JSR) 406
   (8) 풀러 렌의 주형을 이용한 미츠조형 기술
     (요코하마 국립대학, 제이·M·시) 407
   (9) 라드장에 상분리 구조를 취하는 자체 조직화 필름(미츠비시 레이욘) 408
  4.6.4 미츠조형용 감광성 수지의 장래 전망 409
 인용 문헌 410
 
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