강사
일본 파카 라이징 (주) 기술 본부 기술 관리 부장 이시이 히토시씨

취지
화성 처리는 산성 수용액에서 금속 소재를 에칭 (산화) 및 이에 부수하여 일어나는 환원 반응에 의해 피막이 소재에 석출시키는 처리 방법입니다. 따라서 금속 소재 표면에 산화물 층이 존재하고 있어도, 에칭하면서 (산화막을 제거하면서) 피막이 석출하기 때문에 대체로 높은 피막 밀착성을 얻을 수 있습니다.
본 강좌에서는 인산 아연 처리를 비롯한 각종 인산염 처리를 중심으로 화성 처리의 피막 석출 반응기구 및 석출 피막의 피막 특성에 대해 설명합니다.

강연 내용
<얻어지는 지식 · 기술>
· 화성 처리의 개념
· 각종 화성 처리 피막 석출 반응기구
· 화성 피막의 모르포로
· 화성 피막을 발휘하는 기능
· 화성 처리 기술 (피막 석출 촉진을 위한 기술)
<프로그램>
1 . 화성 처리란?
　1.1 표면 처리의 목적과 종류
　1.2 표면 처리 공정 및 피막 형성기구
2. 도장 기초 용 인산 아연 처리
　2.1 인산 아연 피막의 역할
　2.2 반응기구
　2.3 표면 조정의 역할
　2.4 결정 구조
　2.5 인산 아연 피막 중에 Ni, Mn의 작용 효과
　2.6 인산 아연 처리의 알루미늄 재료 대응 기술
3. 기타 화학 처리
　3.1 소성 가공에 윤활 처리 (인산염 + 비누 처리)
　3.2 인산 망간 처리
　3.3 지르코늄 계 화성 처리 (피막 석출기구 및 기초 특성)
　3.4 크로메이트 처리
　3.5 비 크로메이트 처리
　3.6 자기 석출 형 코팅 처리
□ 질의 응답 · 명함 교환 □

개최일시 : 2020년 11월 17일(화) 13:00 ~ 16:30
개최장소 : Zoom를 이용한 Live 세미나
수강료(세금포함) : 44,000엔